Принцип лазерной очистки поверхности
Принцип лазерной очистки поверхности: Процесс импульсной Nd:YAG-лазерной очистки зависит от характеристик оптического импульса, генерируемого лазером, и основан на оптической физической реакции, вызванной взаимодействием оптических колебаний высокой интенсивности, короткоимпульсного лазера и загрязняющего слоя. Ее физические принципы можно кратко описать следующим образом: A Луч, испускаемый лазером, поглощается слоем загрязнения на обрабатываемой поверхности. B Поглощение большой энергии... Читать далее "Принцип лазерной очистки поверхности